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  • 神评
    China8哥
    4
    2020-09-15 12:11:16
    上海微是制造芯片生产设备的,中芯国际是制造芯片和封装的企业,发展方向不一样。
  • 神评
    mono
    4
    2020-09-15 14:24:52
    据说28纳米爆光两次就是14纳米 第三次就是7纳米 第四次就是3纳米[呲牙笑]
  • 神评
    丨丶灬安静er丨
    3
    2020-09-15 10:44:05
    未来的国之重器

6亿经费用10年,据说28纳米爆光两次就是14纳米 第三次就是7纳米 第四次就是3纳米[呲牙笑],了...

2020-09-15 08:40:41
9

神回复:上海微是制造芯片生产设备的,中芯国际是制造芯片和封装的企业,发展方向不一样。

了解更多科技资讯尽在“圈聊科技”。

今天跟大家聊一聊:中国在光刻机的制造上也曾一度接近美国,但由于种种原因导致了项目石沉大海,而现在中国一企业,在10年的时间里仅有6亿的研发费用,却造出了国内最先进的光刻机,打破了发达国家的垄断,成为了中国半导体的救星。

6亿经费用10年, 打造中国最顶尖的光刻机, 中企打破欧美技术封锁图1

光刻机作为目前最复杂的工业设备,其总重达到了180吨,其内部的零部件数量也超过了10万个,3000多根的线路分布其中,超过两公里的软管连接其中的各个部件。受限于其复杂性,目前还没有任何一个国家能够独立生产出光刻机。

荷兰的ASML公司虽然能够制造出最为顶尖的光刻机,当与其说是生产还不如说是一个组装工厂,超过90%的零部件以及核心工艺来自于世界各地,而其中美国的技术又占据了很大一部分,这也是为何中国得不到荷兰尖端光刻机的主要因素。

6亿经费用10年, 打造中国最顶尖的光刻机, 中企打破欧美技术封锁图2

而早在1965年的时候,中国当时就已经研发出了光刻机,是一台65型的接触式光刻机,由于当时半导体领域技术应用的并不广泛,所以国家就没有花太多的精力在这方面的研究上,缺少的相应的经费,也让国产光刻机研发变得异常的困难。不过科研人员还是坚持了下来,曾经的技术也一度接近于美国。

在此之后中间出现了很多的小插曲,改革开放以后,海外先进的工业设备涌入中国,也滋生了国人懒惰的心理,很多企业也拥有了“造不如买”的思想中去,为了短期的利益,所有的工业设备都选择了国外进口,也确实让中国的制造业得到了一定的提升,很多企业家也都赚得盆满钵满。

6亿经费用10年, 打造中国最顶尖的光刻机, 中企打破欧美技术封锁图3

但此后再也没有企业愿意从事对于尖端光刻机的研发了,国产光刻机的研发也暂告一段落,当我们重新拾起这个项目的时候,却发现我们已经很难再赶上欧美国家的进度了。

现在也为当初目光短浅的行为付出了惨重的代价,随着科技的发展,芯片的地位也越来越高了,是智能设备缺一不可的存在,而光刻机就是制造尖端芯片的核心设备,缺少了光刻机也让中国在芯片领域处处受限制,从而也就有了华为事件的诞生。

6亿经费用10年, 打造中国最顶尖的光刻机, 中企打破欧美技术封锁图4

不过好在仍然有中国的企业意识到了问题所在,在十多年的时间里,默默从事着光刻机的研发,这家企业鲜有人知,目前已经实现了90nm光刻机的量产,而它就是中国唯一的光刻巨头上海微电子。虽然上海微电子在技术上,仍然和荷兰的ASML公司存在着很大的差距,但随着中低端光刻机的技术突破,也意味着我们成功打破了西方国家的垄断,对于国产光刻机的发展未来可期。

6亿经费用10年, 打造中国最顶尖的光刻机, 中企打破欧美技术封锁图5

而值得一提的是,之前上海微电子并不被人看好,这也导致了没有人愿意投资这样一家企业,在十年的时间里他们的研发经费只有6亿,在面临技术落后以及资金短缺的双重压力之下,他们却展现出了顽强的一面,在这么短的时间内能够取得这样的突破,也实属不易。

上海微电子的成立时间还要追溯到2002年,成立之初他们的目的性就很明确,就是朝着光刻机去的,经过7年时间的刻苦专研,终于在2009年的时候,交付儿一台封装的光刻机产品,在没有任何技术经验的情况下,他们只能通过进口国外的零部件,照着ASML光刻机的模样,一步一步的拼接出来,最终也如愿以偿拼装出了首台国产光刻机,他们的每一步都走得异常的艰难。

6亿经费用10年, 打造中国最顶尖的光刻机, 中企打破欧美技术封锁图6

面对这样的困境,上海微电子坚持着下来,目前在光刻机领域也已经拿到了3200多项的专利,也有了相应的技术经验,目前上海微电子也已经攻克了28nm光刻机的制造工艺,也将于明年正式交付。目前国家已经高度重视半导体领域的发展,随着更多的人才被培养出来,也将为上海微电子注入更多新鲜的血液,在研发进度上也将进一步加快。

根据相关消息称,在上海微电子实现28nm光刻机的国产化之后,在提升相映的制造工艺之后,也是能够实现7nm芯片的制造的。但整体而言,中国在光刻机领域还有很长的路要走,目前在光刻机核心部件主要分为三个部分,分别为极紫外光源、双工件台以及光学镜头,目前我们仅能实现双工件台技术的突破,在其它两项上和国外的技术还是差别很大的。

6亿经费用10年, 打造中国最顶尖的光刻机, 中企打破欧美技术封锁图7

好在目前中国的半导体企业,也意识到了自主创新的重要性,在国家的带领下,相信很快就能解决半导体领域所面临的困境,华为的困境也将随之解除,对此你们有什么看法?

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最新评论

  • 华子良
    2
    2020-09-15 17:26:15

    吹,用力吹!

  • 神评网友85xxxx3131
    1
    2020-09-15 17:02:01

    持之以恒是多么重要!

  • 模拟人生
    3
    2020-09-15 15:42:29

    中国早就有2nm光刻机了,怕公布出来刺激到川普普,所以一直保密,使用多年未对外公布

  • mono
    4
    2020-09-15 14:24:52

    据说28纳米爆光两次就是14纳米 第三次就是7纳米 第四次就是3纳米[呲牙笑]

  • 莫言
    1
    2020-09-15 12:26:57

    如果是真的,华为就不这么难了

  • China8哥
    4
    2020-09-15 12:11:16

    上海微是制造芯片生产设备的,中芯国际是制造芯片和封装的企业,发展方向不一样。

  • 从零开始
    2
    2020-09-15 10:57:20

    比中芯国际强太多了,中芯国际,那就一假国企

  • 丨丶灬安静er丨
    3
    2020-09-15 10:44:05

    未来的国之重器

  • メ雨夜心情‰
    3
    2020-09-15 10:34:38

    上海微电感觉比中芯国际靠谱

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